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특허실용신안 다공성 막의 제조 방법
2021.02.08 23:57
| IP 명칭 | 다공성 막의 제조 방법 및 이의 제조 장치 |
|---|---|
| 권리자 | 연세대학교 산학협력단 |
| 발명자 또는 창작자 | 손현철, 장유진, 김태호 |
| 출원번호 | 1020190087681 |
| 공개번호 | |
| 등록번호 | 1021251710000 |
| 출원일 | 2019.07.19 |
| 공개일 | |
| 등록일 | 2020.06.15 |
| IP 분야 | 전자통신소자 |
| 응용 분야 및 용도 | 소형 전자 장치 |
| 설명 및 특징 | 본 발명의 실시예에 따르면, 전구체 졸 및 용매를 포함하는 전구체 용액이 제공되는 반응 챔버 내에 상기 용매와 동일한 용매의 증기를 주입하여 상기 용매의 기화 속도를 제어함으로써 용액의 점성을 제어하여 나노 스케일의 다공성 막의 제조 방법을 제공하고 상기 다공성 막의 제조 장치는 공성 막을 형성하는 졸겔 반응 모듈로 가짐으로써 간단한 제어 방법에 의하여 다공성 막을 나노 크기까지 감소시킬 수 있다. |
| IP 핵심 키워드 | 전구체 졸, 기화 속도, 용매의 포화 증기압, 졸겔 반응 모듈 |
| 종래 기술과의 차이점 | 종래에 사용되던 산화 규소의 유전 상수는 3.9~4.2이고 상기 산화 규소의 대체재로 유전율이 낮은 공기를 다량 포함하는 다공성 물질들이 제안되고 있다. 상기 다공성 물질을 마이크로 단위의 집적 회로에 사용하기 위해서는 공극의 크기가 작은 것이 바람직하며, 예를 들어 나노 단위 크기가 적절하다. 본 발명은 제안되고 있는 다공성 물질에 대한 제조 방법과 장치를 제공하는 것이다. |
| 사업성 또는 시장성 | 전자 장치들이 소형화됨으로써 상기 전자 장치 내부에 실장되는 집적 회로도 함께 소형화되면서, 직접 회로들간의 집적도 또한 상승하면서 RC 지연에 의한 신호 지연이 문제가 되고 있다. |
| IP 실현단계(TRL) | 사업화 |
| IP 거래 형태 | 협의 |
| IP 거래 희망 시기 | 협의 |
| 거래 희망 금액 | 협의 |
| IP 거래 조건 | 협의 |
다공성 막의 제조 장치를 나타내는 구성도
