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특허실용신안 비선형 선택 소자

2021.01.29 22:35

김유진 조회 수:157

IP 명칭 비선형 선택 소자, 이의 제조 방법 및 이를 포함하는 비휘발성 메모리 장치 
권리자
발명자 또는 창작자 손현철, 이지민, 김태호, 나희도 
출원번호 10-2019-0036973 
공개번호 10-2020-0114744 
등록번호
출원일 2019년03월29일 
공개일 2020년10월07일 
등록일
IP 분야 전자통신소자 
응용 분야 및 용도 저항 변화 메모리 
설명 및 특징 비선형 선택 소자는 제 1 전극; 제 2 전극; 및 상기 제 1 전극과 상기 제 2 전극 사이에 배치되고, 금속 절연체 전이 특성을 갖는 제 1 전이 금속의 산화물 매트릭스 층 및 상기 산화물 매트릭스 층 내에 국부적으로 배치되고, 상기 제 1 전이 금속과 다른 종류의 제 2 전이 금속의 산화물을 포함하며, 문턱 전압을 갖는 스위칭 층을 포함하고, 상기 문턱 전압은 상기 제 2 전이 금속의 산화물의 함유량에 의해 조절될 수 있다. 
IP 핵심 키워드 산화물 매트릭스 층, 문턱 전압, 비선형 
종래 기술과의 차이점 선택 소자로서 우수한 비선형 특성은 유지하며, ReRAM 소자의 메모리 셀의 동작 전압을 고려하여 넓은 문턱 전압 윈도우를 가지면서 요구되는 문턱 전압이 용이하게 설정될 수 있다. 
사업성 또는 시장성 저항 변화 메모리는 종래의 비휘발성 플래시 메모리를 대체할 차세대 메모리로서 많은 주목을 받고 있다. 
IP 실현단계(TRL) 사업화 
IP 거래 형태 협의 
IP 거래 희망 시기 협의 
거래 희망 금액 협의 
IP 거래 조건 협의 

비선형 선택 소자를 이용하는 비휘발성 메모리 소자의 블록도


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