2020.09.17 00:18
| IP 명칭 | 2 차원 물질을 이용한 반도체 소자의 제조 장치 및 이를 이용하는 방법 |
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| 권리자 | 연세대학교 산학협력단 |
| 발명자 또는 창작자 | |
| 출원번호 | 10-2016-0173991 |
| 공개번호 | |
| 등록번호 | 10-2022156 |
| 출원일 | 2016-12-19 |
| 공개일 | |
| 등록일 | 2019-09-09 |
| IP 분야 | 전자통신소자 |
| 응용 분야 및 용도 | |
| 설명 및 특징 | 본 발명의 실시예에 따르면, 반응기 또는 플라즈마 발생기 중 어느 하나가 선택적으로 반응 공간에 인접하여 피처리체에 관한 공정을 수행할 수 있도록, 상기 반응기 또는 상기 플라즈마 발생기를 공용 반응 튜브의 상기 길이 방향으로 이동 가능하게 상기 공용 반응 튜브에 결합시킴으로써, 공정 이동 간의 오염 물질을 최소화하여 물질의 특성을 저하시키지 않고, 복잡한 반도체 공정을 단순화하고, 반도체 제조 비용을 낮추며, 공정 시간의 지연을 최소화할 수 있는, 물질 합성 및 표면 개질을 수행하는 반도체 소자의 제조 장치가 제공될 수 있다. |
| IP 핵심 키워드 | |
| 종래 기술과의 차이점 | |
| 사업성 또는 시장성 | |
| IP 실현단계(TRL) | 사업화 |
| IP 거래 형태 | 매입 |
| IP 거래 희망 시기 | 협의 |
| 거래 희망 금액 | 협의 |
| IP 거래 조건 | 협의 |
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