| IP 명칭 | 이차원 나노 물질을 이용한 반도체 소자의 제조 장치 및 방법 |
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| 권리자 | 연세대학교 산학협력단 |
| 발명자 또는 창작자 | |
| 출원번호 | 10-2016-0089989 |
| 공개번호 | |
| 등록번호 | 10-1924689 |
| 출원일 | 2016-07-15 |
| 공개일 | |
| 등록일 | 2018-11-27 |
| IP 분야 | 전자통신소자 |
| 응용 분야 및 용도 | |
| 설명 및 특징 | 본 발명의 실시예에 따르면, 이차원 나노 물질의 특성들 중 적어도 하나를 변화시키기 위한 다수의 플라즈마 처리(plasma-treatment)들 중 선택된 플라즈마 처리에 대응하는 가변 주파수를 결정하는 제어 모듈, 상기 제어 모듈의 제어에 따라, 상기 가변 주파수를 갖는 전력을 공급하는 전력 공급 모듈 및 상기 가변 주파수를 갖는 전력에 따라 생성되는 플라즈마에 의해 상기 이차원 나노 물질의 특성을 변화시키는 플라즈마 처리 모듈을 포함하여, 동일한 하나의 장치에서 주파수, 전력, 가스의 변화를 통해 이차원 물질에 다양한 표면 공정을 가능하게 함으로써, 복잡한 반도체 공정을 단순하고, 소자의 제조 비용을 낮추고, 공정 시간의 지연을 최소화할 수 있는 이차원 나노 물질을 이용한 반도체 소자의 제조 장치가 제공될 수 있다. |
| IP 핵심 키워드 | |
| 종래 기술과의 차이점 | |
| 사업성 또는 시장성 | |
| IP 실현단계(TRL) | 사업화 |
| IP 거래 형태 | 매입 |
| IP 거래 희망 시기 | 협의 |
| 거래 희망 금액 | 협의 |
| IP 거래 조건 | 협의 |
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