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특허실용신안 화학 기상 증착 시스템
2021.02.05 20:27
| IP 명칭 | 화학 기상 증착 시스템 |
|---|---|
| 권리자 | 연세대학교 산학협력단 |
| 발명자 또는 창작자 | 이관형, 이종영, 강소정, 김한결, 정연준 |
| 출원번호 | 1020190058576 |
| 공개번호 | 1020200133428 |
| 등록번호 | 1021983400000 |
| 출원일 | 2019.05.20 |
| 공개일 | 2020.11.30 |
| 등록일 | 2020.12.28 |
| IP 분야 | 전자통신소자 |
| 응용 분야 및 용도 | |
| 설명 및 특징 | 본 발명은 피처리체가 수용되는 반응 공간을 제공하는 반응 챔버 내에서 피처리체의 위치를 제어하는 샘플 홀더를 포함하는 화학 기상 증착 장치를 고정 및 지지하며, 반응 챔버가 지면에 수직한 제 1 방향 또는 수평한 제 2 방향에 정렬되도록 화학 기상 증착 장치를 회전시키는 장치용 거치대를 포함하여 샘플 홀더가 제 1 단부와 제 2 단부를 이용하여 반응 챔버 내부로 공급될 기체의 흐름 방향과 평행하도록 상기 피처리체를 고정시킬 수 있는 화학 기상 증착 시스템에 관한 것이다. |
| IP 핵심 키워드 | 피처리체, 샘플 홀더, 피스톤, 동력 전달 |
| 종래 기술과의 차이점 | 일반적으로 2 차원 물질의 합성 방법으로서, 화학기상 증착법(Chemical Vapor Deposition, CVD)이 많이 활용되고 있지만, 이러한 방법을 포함하는 화학 기상 증착 장치는 수평형 CVD 장치로서 샘플 로딩의 용이함과 상기 수직형 CVD 장치가 갖는 대면적의 균일한 합성이 가능한 이점을 갖는 화학 기상 증착 장치의 개발이 필요하다 |
| 사업성 또는 시장성 | 최근 다양한 전기적·광학적 성질을 갖는 2 차원 물질의 기술 응용범위가 확대되고, 상용화 가능성이 높아지고 있다. |
| IP 실현단계(TRL) | 사업화 |
| IP 거래 형태 | 협의 |
| IP 거래 희망 시기 | 협의 |
| 거래 희망 금액 | 협의 |
| IP 거래 조건 | 협의 |
화학 기상 증착 시스템의 구성 블록도
